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磁控溅射设备

XBD-1200卧式真空镀膜生产线

设备特点: 整体结构性好,生产为一次连续生产为市场主流设备可镀LOW-E,铝反射镜子、阳光控制膜、颜色膜

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产品详情

产品主要参数:
双端卧式磁控镀膜机
 整体水平传动。
 独立9节真空箱体
主机占地  约56000长x6000宽x2500高
真空动密封采用磁流体密封装置
采用同步带驱动,减速器输入
主控制部件为PLC可编程序控制器。
可镀基片可以组合

设备特点:
 整体结构性好,生产为一次连续生产
为市场主流设备
可镀LOW-E,铝反射镜子、阳光控制膜、颜色膜

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