镀膜机真空设备的工艺流程解析！

镀膜机真空设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。

镀膜机真空设备所有的工艺数据最终都要永久地存储在真空镀膜机设备工控机硬盘的数据库文件中，才能便于随时调用或查看分析处理。镀膜机真空设备控制系统的报警信息、工艺配方、实时数据等都是自动进行存储的。每出现或解决一个报警，每确定或修改一组数据，即刻添加或修改对应的存储记录。

镀膜机真空设备执行蒸发工艺过程中，每秒钟添加一组实时工艺参数记录，包括发生的日期和时间等。这样的设计有利于每批次的设定参数和实时参数比对，容易快速发现镀膜工艺中的问题。镀膜机真空设备采集到的实时数据量可以与真空镀膜机设备表和趋势图的链接联系起来，用图表和趋势曲线把它们分别显示出来，这种直观的显示非常有利于观察把握工作进程，发现问题并立即采取措施。

镀膜机真空设备大量的数据主要来自蒸发工艺中的工作参数，如真空度、温度、旋转速度、充气量、蒸发速率、蒸发功率、膜层厚度等等。要与每个控制器、电源和仪表等传递数据，串口通讯技术是最常用的手段。但设计时有必要对全部数据量分组或合并优化，针对不同时段、不同组的数据打包，用几个接口分别独立传送以可靠地提高工作传输效率，满足系统较大量数据传输的要求。