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磁控溅射设备
用途:手机后盖颜色膜
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产品详情
产品主要参数真空室内径:φ1500mm真空室高度:1800mm极限真空度:5.0×10-4Pa恢复真空:大气到5×10-3Pa≤18min工件夹具转速:5~60 r.p.m基片烘烤:侧壁烘烤磁控靶:孪生旋转靶溅射电源:中频电源膜厚控制:单探头+晶控离子源:条形离子源用途:手机后盖颜色膜
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